Феномен тровања вакуумске посребрене мете

Феномен тровања вакуумске посребрене мете

(1) Акумулација позитивних јона: Када је мета отровна, на површини мете се формира изолациони филм. Када позитивни јони стигну до циљне површине катоде, због блокирања изолационог слоја, они не могу директно ући у циљну површину катоде, већ се акумулирају на површини мете, која је склона хладном пољу. Пражњење изазвано луком --- ствара лук, тако да се катодно распршивање не може наставити.

(2) Анода нестаје: Када је мета отровна, изолациони филм се такође одлаже на зид уземљене вакуумске коморе, а електрони који дођу до аноде не могу да уђу у аноду, што доводи до нестанка аноде.

Фактори утицаја тровања вакуум посребрених мета

Главни фактор који утиче на тровање циља је однос реактивног гаса и гаса за распршивање. Прекомерни реактивни гас ће довести до циљаног тровања. Током процеса реактивног распршивања, регион канала за распршивање на циљној површини је прекривен производом реакције или се реакциони производ ољушти да би се метална површина изнова и изнова открила. Ако је брзина формирања једињења већа од брзине којом се једињење уклања, површина покривена једињењем се повећава. У случају одређене снаге, количина реакционог гаса који учествује у формирању једињења се повећава, а брзина формирања једињења се повећава. Ако се количина реактивног гаса прекомерно повећа, површина коју покрива једињење се повећава. Ако се брзина протока реактивног гаса не може подесити на време, брзина повећања површине коју покрива једињење не може бити потиснута, а канал за распршивање ће бити додатно покривен једињењем. Када је мета за прскање потпуно прекривена једињењем Када је мета потпуно отровна.

Формирање металних једињења на циљној површини вакуумског посребрења

У процесу формирања једињења са површине металне мете кроз процес реактивног прскања, где се формира једињење? Пошто се честице реактивног гаса сударају са атомима на циљној површини да би генерисале хемијску реакцију за генерисање атома једињења, што је обично егзотермна реакција, топлота створена реакцијом мора имати начин проводљивости, иначе се хемијска реакција не може наставити. Пренос топлоте између гасова је немогућ под вакуумом, па се хемијске реакције морају одвијати на чврстој површини. Производи реактивног распршивања се изводе на циљним површинама, површинама супстрата и другим структурираним површинама. Стварање једињења на површини супстрата је наш циљ. Стварање једињења на другим површинама је губитак ресурса. Стварање једињења на циљној површини је у почетку било извор атома једињења, али је касније постало препрека за континуирано снабдевање више атома једињења.

ввв.супербхеатер.цом