Фотоелектрична својства ИТО танких филмова припремљених различитим процесима вакуумског сребрења су прилично различита

Фотоелектрична својства ИТО танких филмова припремљених различитим процесима вакуумског сребрења су прилично различита

Када користите мету од легуре за припрему ИТО танког филма, због јаке електрохемијске реакције кисеоника као реактивног гаса са метом током процеса распршивања, површина мете је прекривена слојем једињења, тако да је подручје ерозије прскањем веома мали (познато као "тровање мете"), тако да је тешко стабилно припремити висококвалитетне ИТО филмове ДЦ распршивањем. То јест, када се користи распршивање легуре циљног магнетрона, прозор параметара процеса је веома узак и изузетно нестабилна.Пошто керамичка мета може инхибирати селективно распршивање кисеоника током процеса распршивања, може стабилно да формира реактанте металног индијума, калаја и кисеоника према потребном хемијском односу, тако да нема феномена тровања, а процес прозор је широк.Добра стабилност.Међутим, то не значи да је керамичка мета решила све проблеме.На фотоелектрична својства танких филмова и даље утичу главни параметри процеса као што су температура подлоге, напон распршивања и садржај кисеоника. Фотоелектрична својства ИТО танких филмова припремљених различитим процесима су прилично различита.

Вакумирајте сребро индијум калај оксид

Филм од индијум-калај оксида је широко коришћен провидни проводни материјал, који се зрело користи у ветробранским стаклима моторних возила, уређајима за приказ са течним кристалима, соларним ћелијама, холографским и телевизорима у боји са течним кристалима, итд. , који се назива ОЛЕД). Са становишта примене, састав ИТО филма обично се захтева да буде Ин2О3 и СнО2, а што је мање нисковалентних једињења индијума и калаја у филму, то боље. Постоје многе методе припреме за ИТО танке филмове, као што су прскање, испаравање, распршивање радио фреквенцијама и распршивање магнетроном.

ввв.супербхеатер.цом