Материјал вакуумске коморе за вакуумско посребривање је углавном нерђајући челик

Материјал вакуумске коморе за вакуумско посребривање је углавном нерђајући челик

Материјал вакуум коморе система ултра-високог вакуума је углавном нерђајући челик, што је изузетно важно за чишћење нерђајућег челика. Чишћење је да се смањи физиорпција и хемисорпција гасова на површинама од нерђајућег челика. Нечиста површина од нерђајућег челика се посматра секундарним јонским спектрометром и Аугер спектрометром. Главно загађење је угљеник и његова једињења, која припадају органским материјама. Због тога је употреба различитих хемијских растварача за уклањање површинских органских материја и карбида уобичајена метода.

Метода испаравања извора отпорности на вакуумско посребривање има једноставну структуру и ниску цену

Машина за облагање вакуумским испаравањем која користи отпорни грејач за загревање и испаравање има предности једноставне структуре, ниске цене и поуздане употребе. У Кини се до сада, у производњи алуминијумских огледала, и даље користи велики број процеса превлачења отпорног загревања испаравањем. Такозвана метода испаравања извора испаравања отпора је употреба метала високе тачке топљења као што су тантал, молибден, волфрам итд., Да би се направио одговарајући облик извора испаравања, ставио материјал који треба да се испари, пустио да струји ваздух кроз, и директно загрејте и испарите материјал за испаравање, или ставите материјал који треба да се испари. Материјал за испаравање се ставља у глиницу, берилијум оксид и друге лончиће за индиректно загревање испаравања. Ово је метода отпорног загревања испаравањем.

Метода испаравања извора отпорности на вакуумско посребривање

Метода испаравања извора отпорности на испаравање је основна метода облагања опреме за вакуумско испаравање. „Испаравање“ се односи на загревање и испаравање материјала за облагање који треба да се формира у танки филм у вакуумској комори, тако да атоми или молекули материјала испаре са површине и побегну да формирају феномен протока паре, који се јавља на површини супстрата или супстрата, и на крају се кондензује да би се формирао метод припреме чврстог филма.

ввв.супербхеатер.цом