Опрема за вакуумску галванизацију магнетрон прскање тешке мете

Опрема за вакуумску галванизацију магнетрон прскање тешке мете

Циљни извор се дели на уравнотежене и неуравнотежене типове. Балансирани циљни извор има уједначен премаз, а неуравнотежени циљни изворни премаз има јаку силу везивања са подлогом. Балансирани циљни извори се углавном користе за полупроводничке оптичке филмове, а неуравнотежене мете се углавном користе за хабајуће декоративне филмове.

Без обзира на равнотежу и неравнотежу, ако је магнет непомичан, његове карактеристике магнетног поља одређују да је циљна стопа искоришћења генерално мања од 30 процената. Да би се повећала стопа искоришћења циљног материјала, може се користити ротационо магнетно поље. Међутим, ротационо магнетно поље захтева ротирајући механизам, а брзину распршивања треба истовремено смањити. Ротирајућа магнетна поља се углавном користе за велике или скупе

Тешка мета. Као што је распршивање полупроводничког филма. За малу опрему и општу индустријску опрему, често се користи статички циљни извор магнетног поља.

Лако је прскати метале и легуре са магнетронским циљним изворима, а паљење и прскање су погодни. То је зато што мета (катода), плазма и вакуумска комора распршеног дела могу да формирају коло. Али ако прскају изолатори као што је керамика, коло је прекинуто.

Опрема за вакуумску галванизацију магнетронско распршивање укључује многе врсте

Постоји много врста магнетронског распршивања вакуумског премаза. Сваки има различите принципе рада и објекте примене. Али имају једну заједничку ствар: интеракција магнетног поља са електронима доводи до тога да се електрони врте око циљне површине, чиме се повећава вероватноћа да електрони ударе у гас аргон да би произвели јоне. Место

Генерисани јони ударају у површину мете под дејством електричног поља да би избацили мету.

У развоју последњих деценија, трајни магнети су постепено усвајани, а магнети завојнице се ретко користе.

ввв.супербхеатер.цом