Степен вакуума премаза и парцијални притисак реактивног гаса машине за вакуумско облагање.

Степен вакуума премаза и парцијални притисак реактивног гаса машине за вакуумско облагање.

Утицај вакуумског степена јонске облоге на структуру и перформансе филма сличан је утицају вакуумског испаравања, али парцијални притисак реактивног гаса има директан утицај на састав, структуру и перформансе једињења филма припремљеног реактивним јоном. платинг. Слика 5 је хцд Однос између тврдоће јон-посвучене лимене фолије и парцијалног притиска азота, тако да парцијални притисак реактивног гаса треба да се бира у складу са методом јонске плоче, саставом, својствима, захтевима примене и опрема слоја сложеног филма

Снага извора испаравања машине за вакуумско облагање

Снага извора испаравања има директан утицај на брзину испаравања, што заузврат утиче на брзину таложења и утиче на структуру и својства филма. Снага извора испаравања ће такође утицати на састав филма када се филм једињења реактивно депонује.

Да би се добио слој филма са потребним перформансама, треба извршити свеобухватну анализу, узети у обзир различите факторе, одабрати методу премаза и одредити разумне параметре процеса премазивања.

Температура подлоге за вакуумско наношење.

Температура подлоге обложене јонима директно утиче на организацију, структуру и перформансе филма. Генерално, повећање температуре је погодно за побољшање адхезије између филма и подлоге и погодује побољшању организације и перформанси филма. Међутим, ако је температура превисока, брзина таложења ће се смањити, а понекад ће зрна филма бити груба и перформансе ће се погоршати. На слици 6, температура супстрата утиче на микротврдоћу хцд јонског хромираног филма. Поред тога, избор температуре подлоге је такође ограничен својствима материјала подлоге, као што је температура каљења челика итд.

ввв.супербхеатер.цом